机构

• 兰州化学物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2016 [1]

学科主题

• 材料科学与物理化学 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Properties of a-C:H:Si thin films deposited by middle-frequency magnetron sputtering 期刊论文  OAI收割 Applied Surface Science, 2016, 卷号: 379, 页码: 516-522 作者:  Jiang JL(姜金龙);  Wang, Yubao;  Du, Jinfang;  Yang, Hua;  Hao JY(郝俊英) 收藏  |  浏览/下载：40/0  |  提交时间：2016/07/11 a-C:H:Si films  Magnetron sputtering  Structure  Tribological properties