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Growth of planar, non-polar a-plane gallium nitride by hydride vapor phase epitaxy 专利  OAI收割
专利号: US20060008941A1, 公开日期: 2006-01-12
作者:  
HASKELL, BENJAMIN A.;  FINI, PAUL T.;  MATSUDA, SHIGEMASA;  CRAVEN, MICHAEL D.;  DENBAARS, STEVEN P.
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Growth of reduced dislocation density non-polar gallium nitride by hydride vapor phase epitaxy 专利  OAI收割
专利号: WO2004061909A1, 公开日期: 2004-07-22
作者:  
HASKELL, BENJAMIN, A.;  CRAVEN, MICHAEL, D.;  FINI, PAUL, T.;  DENBAARS, STEVEN, P.;  SPECK, JAMES, S.
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