机构

• 半导体研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2013 [1]

学科主题

• 光电子学 [1]

筛选

浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Sub-400 degrees C Si2H6 Passivation, HfO2 Gate Dielectric, and Single TaN Metal Gate: A Common Gate Stack Technology for In0.7Ga0.3As and Ge1-xSnx CMOS 期刊论文  OAI收割 ieee transactions on electron devices, 2013, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: 1640-1648 Gong, Xiao; Han, Genquan; Liu, Bin; Wang, Lanxiang; Wang, Wei; Yang, Yue; Kong, Eugene Yu-Jin; Su, Shaojian; Xue, Chunlai); Cheng, Buwen; Yeo, Yee-Chia 收藏  |  浏览/下载：25/0  |  提交时间：2013/08/27