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• 光电技术研究所 [3]

采集方式

• OAI收割 [3]

内容类型

• 期刊论文 [3]

发表日期

• 2015 [3]

学科主题

• Alignment ... [2]

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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Moire-Based Absolute Interferometry With Large Measurement Range in Wafer-Mask Alignment 期刊论文  OAI收割 IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS, 2015, 卷号: 27, 期号: 4 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Yin, Didi;  Ma, Chifei 收藏  |  浏览/下载：29/0  |  提交时间：2015/07/10 Moire fringes  measurement range  wafer-mask alignment  lithography   Moiré-based absolute interferometry with large measurement range in wafer-mask alignment 期刊论文  OAI收割 IEEE Photonics Technology Letters, 2015, 卷号: 27, 期号: 4, 页码: 435-438 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Yin, Didi;  Ma, Chifei 收藏  |  浏览/下载：28/0  |  提交时间：2016/11/23 Moiré-based absolute interferometry with large measurement range in wafer-mask alignment 期刊论文  OAI收割 IEEE Photonics Technology Letters, 2015, 卷号: 27, 期号: 4, 页码: 435-438 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Yin, Didi;  Ma, Chifei 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2016/11/22