中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
首页 机构 成果 学者
  
  1. CAS IR Grid
机构
采集方式
内容类型
发表日期
学科主题
筛选

浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助

条数/页： 排序方式：
Process for vapor phase epitaxy of compound semiconductor 专利  OAI收割
专利号: EP0801156A2, 公开日期: 1997-10-15
作者:  OKAHISA, TAKUJI, C/OSUMITOMO ELECTRIC IND. LTD.;  SHIMAZU, MITSURU, SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES LTD;  MATSUSHIMA, MASATO, SUMITOMO ELECTRIC IND. LTD.;  MIURA, YOSHIKI, SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES LTD.;  MOTOKI, KENSAKU, SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES LTD.
  |  收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2019/12/26