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Effect of postdeposition annealing on the thermal stability and structural characteristics of sputtered HfO2 films on Si (100) 期刊论文  OAI收割
surface science, 2005, 期号: 576
G.He; M.Liu; L.Q. Zhu; M.Chang; Q.Fang; L.D. Zhang
收藏  |  浏览/下载:27/0  |  提交时间:2010/08/17