机构

• 微电子研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2018 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Tuning of Schottky Barrier Height at NiSi/Si Contact by Combining Dual Implantation of Boron and Aluminum and Microwave Annealing 期刊论文  OAI收割 Materials, 2018 作者:  Wei Zou;  Zhijun Qiu;  Dongping Wu;  Luo J(罗军);  Xiangbiao Zhou   |  收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2019/05/20