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苏州纳米技术与纳米仿... [1]
采集方式
OAI收割 [1]
内容类型
期刊论文 [1]
发表日期
2017 [1]
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High-performance AlGaN/GaN MIS-HEMT device based on in situ plasma nitriding and low power chemical vapor deposition Si3N4gate dielectrics
期刊论文
OAI收割
2017
作者:
Li, Shu-Ping
;
Zhang, Zhi-Li(张志利)
;
Fu, Kai(付凯)
;
Yu, Guo-Hao(于国浩)
;
Cai, Yong(蔡勇)
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提交时间:2018/02/05