机构

• 金属研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 1987 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 等离子体科学技术应用专题系列介绍 第八讲 气体放电等离子体在薄膜技术上的应用 期刊论文  OAI收割 物理, 1987, 期号: 3, 页码: 157-160 闻立时 收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2012/04/12 气体放电等离子体:7619  薄膜技术:3488  PACVD:3188  离子镀:2433  溅射:1853  气相沉积:1770  沉积温度:1548  科学技术:1478  体表面:1197  粒子:1044