机构

• 沈阳自动化研究所 [2]
• 上海微系统与信息技术... [1]

采集方式

• OAI收割 [3]

内容类型

• 期刊论文 [3]

发表日期

• 2012 [1]
• 2011 [1]
• 2007 [1]

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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序 基于LS-SVM的光刻过程R2R预测控制方法 期刊论文  OAI收割 半导体技术, 2012, 卷号: 37, 期号: 6, 页码: 482-488 作者:  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：33/0  |  提交时间：2012/10/24 光刻过程  关键尺寸  最小二乘支持向量机  预测控制  批次控制  微粒群算法   光刻过程RtR控制方法研究进展分析 期刊论文  OAI收割 半导体技术, 2011, 卷号: 36, 期号: 3, 页码: 199-205 作者:  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：29/0  |  提交时间：2012/05/29 半导体制造业  光刻过程  RtR控制  过程控制  模型预测控制  多变量控制器  控制方法  研究进展  关键尺寸  过程建模   锑化物激光器的研究进展 期刊论文  OAI收割 材料导报, 2007, 期号: 11 刘盛; 张永刚 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2012/01/06 蚀刻腔条件  SiO2刻蚀  关键尺寸