机构

• 微电子研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2003 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 电子束曝光UV3正性抗蚀剂的工艺研究 期刊论文  OAI收割 微电子学, 2003, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 5，485-489 作者:  刘明;  殷华湘;  王云翔;  徐秋霞   |  收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2010/05/25 电子束曝光  凹槽图形 Uv3  正性抗蚀剂  曝光延迟效应  光刻