机构

• 微电子研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2008 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 ICP等离子体刻蚀系统射频偏压的实验研究 期刊论文  OAI收割 半导体学报, 2008, 卷号: 29, 期号: 5, 页码: 4，980-983 作者:  张庆钊;  谢常青;  刘明;  李兵;  朱效立   |  收藏  |  浏览/下载：57/0  |  提交时间：2010/05/27 等离子体  射频偏压  Icp  干法刻蚀