中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
首页
机构
成果
学者
登录
注册
登陆
×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
校外用户登录
CAS IR Grid
机构
金属研究所 [5]
高能物理研究所 [1]
海洋研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [7]
内容类型
期刊论文 [4]
会议论文 [2]
专利 [1]
发表日期
2012 [1]
2011 [1]
2006 [2]
1983 [1]
1982 [1]
1965 [1]
更多
学科主题
筛选
浏览/检索结果:
共7条,第1-7条
帮助
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
作者升序
作者降序
L-丝氨酸/壳聚糖修饰对乙酰氨基酚电化学传感器及应用
专利
OAI收割
专利类型: 发明, 专利号: CN201010277816.0, 申请日期: 2012-03-21, 公开日期: 2012-03-21
庞雪辉
;
谭福能
;
隋卫平
;
魏琴
;
张洁
;
解建东
;
侯保荣
收藏
  |  
浏览/下载:31/0
  |  
提交时间:2014/08/04
L?丝氨酸/壳聚糖修饰对乙酰氨基酚电化学传感器
L?丝氨酸/壳聚糖复合膜的制备方法为:(1)将玻碳电极依次进行打磨
(2)将壳聚糖和L?丝氨酸加入到醋酸溶液中
其中
(3)将步骤(1)得到的预处理的玻碳电极浸入步骤(2)所制得的混合溶液中
(4)将步骤(3)中制得的粗产物用蒸馏水清洗2?3次
其特征在于:其以玻碳电极为工作电极
抛光和清洗
不断搅拌使之溶解充分
壳聚糖的质量体积浓度为0.005~0.007g/mL
室温下静置3?5小时
去除多余的L?丝氨酸和壳聚糖
玻碳电极表面涂覆有L?丝氨酸/壳聚糖复合膜
得到预处理的玻碳电极
L?丝氨酸的质量体积浓度为0.003~0.005g/mL
即得涂覆有L?丝氨酸/壳聚糖复合膜的玻碳电极的粗产物
室温下晾干
即得表面涂覆有L?丝氨酸/壳聚糖复合膜的玻碳电极。
电解抛光态690TT合金经不同时间浸泡后表面氧化膜结构分析
期刊论文
OAI收割
金属学报, 2011, 期号: 7, 页码: 831-838
张志明
;
王俭秋
;
韩恩厚
;
柯伟
收藏
  |  
浏览/下载:16/0
  |  
提交时间:2012/04/12
690TT合金
电解抛光处理
浸泡时间
氧化膜
保护性结构
气瓶内表面处理技术简介
会议论文
OAI收割
2006全国低温与特种气体技术交流大会, 成都, 2006-10
金花子
;
吴杰
;
熊天英
收藏
  |  
浏览/下载:30/0
  |  
提交时间:2013/08/21
包装容器
表面处理
电化学抛光
阳极氧化
超音速微粒轰击表面纳米化及其耐磨性初步探讨
会议论文
OAI收割
2006全国摩擦学学术会议, 哈尔滨, 2006-07-25
吕晓仁
;
李曙
;
刘阳
;
张荣禄
收藏
  |  
浏览/下载:22/0
  |  
提交时间:2013/08/21
超音速微粒轰击
表面纳米化
碳钢
耐磨性能
磨损试验
抛光处理
Ti-679合金热盐应力腐蚀行为
期刊论文
OAI收割
中国腐蚀与防护学报, 1983, 期号: 1, 页码: 41-45
虞炳西
;
张绥生
;
万晓景
收藏
  |  
浏览/下载:31/0
  |  
提交时间:2012/04/12
热盐应力腐蚀:7542
临界应力:3162
热处理:2724
合金:2404
两相区:2103
离子探针:1908
金相组织:1876
显微组织:1719
断口形貌:1639
化学抛光:1632
氢气氛浮区硅单晶中正电子湮灭参数的测量
期刊论文
OAI收割
核技术, 1982, 期号: 6, 页码: 66-68
作者:
季国坤
;
黄懋容
;
刘年庆
收藏
  |  
浏览/下载:24/0
  |  
提交时间:2015/12/25
硅单晶
中子辐照
参数表示
晶体生长过程
总计数
间隙原子
用正
加热处理
化学抛光
机械抛光
用普通光照明观察α铀晶粒组织的金相技术
期刊论文
OAI收割
原子能科学技术, 1965, 期号: 3, 页码: 249-255
周邦新,孔令枢
收藏
  |  
浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2012/04/12
电解液:6697
电解抛光:4151
晶粒组织:3096
氧化处理:2521
氯酸:2181
晶粒大小:2018
晶粒形状:1969
照明:1847
氧化着色:1752
样品:1667