机构

• 光电技术研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2013 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究 期刊论文  OAI收割 光学技术, 2013, 期号: 5, 页码: 408-412 作者:  张杨;  李秀龙;  徐清兰;  张蓉竹 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2016/11/22 平面研磨  去除函数  抛光盘摆幅  偏心距  去除量