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PECVD裂解SiCl4低温快速沉积氢化纳米晶硅薄膜的研究 学位论文  OAI收割
博士, 北京: 中国科学院金属研究所, 2012
张林
收藏  |  浏览/下载:43/0  |  提交时间:2013/04/12
PECVD生长nc—Si:H膜的掺杂特性研究 期刊论文  OAI收割
河北大学学报, 1999, 卷号: 19, 期号: 3, 页码: 5,233-237
作者:  
刘明;  彭英才
  |  收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2010/05/25