机构

• 微电子研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2009 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 平滑陡直的Si深槽刻蚀方法 期刊论文  OAI收割 半导体技术, 2009, 卷号: 34, 期号: 3, 页码: 4，214-216,220 作者:  张育胜   |  收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2010/06/01 硅深槽刻蚀  电感耦合等离子体bosch工艺  化学平衡