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• 上海微系统与信息技术... [1]

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• 2008 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 In situ monitoring and real-time control of gate hardmask etching in high-volume manufacturing of ICs 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2008, 卷号: 155, 期号: 11, 页码: D699-D702 Chen, L; Jiang, WN; Pao, T; Lin, B; Xu, LD; Ji, GM; Cai, H 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2012/03/24 ELECTRONICS CONFERENCE REACTOR  SILICON DIOXIDE  FLUOROCARBON PLASMAS  CHAMBER WALL  CHF3  CF4