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Improved Ti germanosilicidation by Ge pre-amorphization implantation (PAI) for advanced contact technologies 期刊论文  OAI收割
Microelectronic Engineering, 2018
作者:  Mao SJ(毛淑娟);  Wang GL(王桂磊);  Xu J(许静);  Zhang D(张丹);  Luo X(罗雪)
  |  收藏  |  浏览/下载：50/0  |  提交时间：2019/05/05