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• 上海应用物理研究所 [1]

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• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2017 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Band Offsets and Interfacial Properties of HfAlO Gate Dielectric Grown on InP by Atomic Layer Deposition 期刊论文  OAI收割 NANOSCALE RESEARCH LETTERS, 2017, 卷号: 12, 页码: - 作者:  Yang, LF;  Wang, T;  Zou, Y;  Lu, HL   |  收藏  |  浏览/下载：30/0  |  提交时间：2017/12/08 Band Alignments  Hfalo Dielectric  Inp  Atomic Layer Deposition