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Acid and Surfactant Effect on Chemical Mechanical Polishing of Ge2Sb2Te5 期刊论文  OAI收割
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2009, 卷号: 156, 期号: 9, 页码: H699-H702
Wang, LY; Liu, B; Song, ZT; Feng, SL; Xiang, YH; Zhang, FX
收藏  |  浏览/下载:16/0  |  提交时间:2012/03/24