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• 上海光学精密机械研究... [1]

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• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2009 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Impact of polarized illumination on high NA imaging in ArF immersion lithography at 45 nm node 期刊论文  OAI收割 optik, 2009, 卷号: 120, 期号: 7, 页码: 325, 329 Yuan Qiongyan; 王向朝; Qiu Zicheng 收藏  |  浏览/下载：1363/237  |  提交时间：2009/09/18 Immersion lithography  Polarized illumination  Normalized image log slope  Exposure defocus window