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长春光学精密机械与物... [1]
中国科学院大学 [1]
采集方式
iSwitch采集 [1]
OAI收割 [1]
内容类型
期刊论文 [2]
发表日期
2018 [1]
2007 [1]
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共2条,第1-2条
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Refined grating fabrication using Displacement Talbot Lithography
期刊论文
OAI收割
Microelectronic Engineering, 2018, 卷号: 189, 页码: 74-77
作者:
Chen, H.
;
Qin, L.
;
Chen, Y. Y.
;
Jia, P.
;
Gao, F.
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提交时间:2019/09/17
Refined grating fabrication
Displacement Talbot Lithography
Phase
shift mask
Photolighography
interferometric lithography
grids
Engineering
Science & Technology - Other Topics
Optics
Physics
Effect of resolution enhancement techniques on aberration sensitivities of arf immersion lithography at 45 mn node
期刊论文
iSwitch采集
Japanese journal of applied physics part 1-regular papers brief communications & review papers, 2007, 卷号: 46, 期号: 5a, 页码: 2936-2940
作者:
Li, Yanqiu
;
Zhang, Fei
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提交时间:2019/05/10
Immersion lithography
Resolution enhanced technology (ret)
Polarization
Phase shift mask
Aberration sensitivity