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Promoting strain relaxation of si0.72ge0.28 film on si (100) substrate by inserting a low-temperature ge islands layer in uhvcvd 期刊论文  iSwitch采集
Applied surface science, 2008, 卷号: 255, 期号: 5, 页码: 2660-2664
作者:  
Zhou, Zhiwen;  Cai, Zhimeng;  Li, Cheng;  Lai, Hongkai;  Chen, Songyan
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Promoting strain relaxation of Si0.72Ge0.28 film on Si (100) substrate by inserting a low-temperature Ge islands layer in UHVCVD 期刊论文  OAI收割
applied surface science, 2008, 卷号: 255, 期号: 5, 页码: 2660-2664 part 2
Zhou ZW; Cai ZM; Li C; Lai HK; Chen SY; Yu JZ
收藏  |  浏览/下载:77/0  |  提交时间:2010/03/08