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• 中国科学院大学 [1]

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• iSwitch采集 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2007 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Effect of resolution enhancement techniques on aberration sensitivities of arf immersion lithography at 45 mn node 期刊论文  iSwitch采集 Japanese journal of applied physics part 1-regular papers brief communications & review papers, 2007, 卷号: 46, 期号: 5a, 页码: 2936-2940 作者:  Li, Yanqiu;  Zhang, Fei 收藏  |  浏览/下载：41/0  |  提交时间：2019/05/10 Immersion lithography  Resolution enhanced technology (ret)  Polarization  Phase shift mask  Aberration sensitivity