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• 上海微系统与信息技术... [1]

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• OAI收割 [1]

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• 会议论文 [1]

发表日期

• 2005 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Ge浓缩技术制备SGOI过程中应力释放机理 会议论文  OAI收割 第十四屇全国半导体集成电路、硅材料学术年会, 2005 刘卫丽; 狄增峰; 张苗; 骆苏华; 宋志棠; 朱剑豪; 林成鲁 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2012/01/18 SiGe 应力释放 氧化 扩散 Ge浓缩技术 SGOI材料