机构

• 光电技术研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2013 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序 Superlens imaging lithography for high aspect ratio sub-wavelength pattern employing trilayer resist process 期刊论文  OAI收割 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2013, 卷号: 110, 页码: 35-39 作者:  Fang, Liang;  Pan, Li;  Wang, Changtao;  Luo, Xiangang 收藏  |  浏览/下载：29/0  |  提交时间：2015/04/17 Super lens  Surface plasmon  Lithography  Tr-layer resist process