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机构
中国科学院大学 [1]
半导体研究所 [1]
采集方式
iSwitch采集 [1]
OAI收割 [1]
内容类型
期刊论文 [2]
发表日期
2015 [1]
2001 [1]
学科主题
半导体物理 [1]
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浏览/检索结果:
共2条,第1-2条
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Oxidation precursor dependence of atomic layer deposited al2o3 films in a-si:h(i)/al2o3 surface passivation stacks
期刊论文
iSwitch采集
Nanoscale research letters, 2015, 卷号: 10, 期号: 1
作者:
Xiang,Yuren
;
Zhou,Chunlan
;
Jia,Endong
;
Wang,Wenjing
收藏
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浏览/下载:73/0
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提交时间:2019/05/09
Atomic layer deposition
Al2o3
A-si:h(i)/al2o3 stack
Interface trap density
The microstructure and its high-temperature annealing behaviours of a-Si : O : H film
期刊论文
OAI收割
acta physica sinica, 2001, 卷号: 50, 期号: 12, 页码: 2418-2422
Wang YQ
;
Chen CY
;
Chen WD
;
Yang FH
;
Diao HW
收藏
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浏览/下载:95/6
  |  
提交时间:2010/08/12
a-Si : O : H
nc-Si
microstructure
annealing
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
AMORPHOUS SIO2
OPTICAL-PROPERTIES
SILICON