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Thickness analysis for thin-film by glazing exit X-ray fluorescence with synchrotron radiation source 期刊论文  OAI收割
HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS-CHINESE EDITION, 2005, 卷号: 29, 期号: 11, 页码: 1104-1106
作者:  Gong, Y;  Chen, B;  Ni, QL;  Cui, MQ;  Zhao, YD
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