机构

• 金属研究所 [1]
• 半导体研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [2]

内容类型

• 期刊论文 [2]

发表日期

• 2009 [1]
• 2006 [1]

学科主题

• 半导体物理 [1]

筛选

浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Role of interface dipole in metal gate/high-k effective work function modulation by aluminum incorporation 期刊论文  OAI收割 applied physics letters, 2009, 卷号: 94, 期号: 25, 页码: art. no. 252905 作者:  Zhang XW 收藏  |  浏览/下载：64/0  |  提交时间：2010/03/08 high-k dielectric thin films  MOS capacitors  work function   Phase separation enhanced interfacial reactions in complex high-k dielectric films 期刊论文  OAI收割 Integrated Ferroelectrics, 2006, 卷号: 86, 页码: 13-19 X. Y. Qiu; F. Gao; H. W. Liu; J. S. Zhu; J. M. Liu 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2012/04/14 phase separation  interfacial reaction  high-k dielectric film  pulsed-laser deposition  silicate thin-films  thermal-stability  gate  property  hfo2