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金属研究所 [2]
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OAI收割 [2]
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期刊论文 [2]
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2015 [2]
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The microstructure and optical properties of SiNx deposited by linear microwave chemical vapor deposition
期刊论文
OAI收割
ACTA PHYSICA SINICA, 2015, 卷号: 64, 期号: 6
作者:
Zhang Jian
;
Ba DeChun
;
Zhao ChongLing
;
Liu Kun
;
Du GuangYu
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收藏
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2021/02/02
SILICON-NITRIDE FILMS
THIN-FILMS
PLASMA
PHOTOLUMINESCENCE
TEMPERATURE
SiNx thin film
linear microwave chemical vapor deposition
refractivity
deposition rate
The microstructure and optical properties of SiNx deposited by linear microwave chemical vapor deposition
期刊论文
OAI收割
ACTA PHYSICA SINICA, 2015, 卷号: 64, 期号: 6
作者:
Zhang Jian
;
Ba DeChun
;
Zhao ChongLing
;
Liu Kun
;
Du GuangYu
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提交时间:2021/02/02
SILICON-NITRIDE FILMS
THIN-FILMS
PLASMA
PHOTOLUMINESCENCE
TEMPERATURE
SiNx thin film
linear microwave chemical vapor deposition
refractivity
deposition rate