机构

• 金属研究所 [1]
• 兰州化学物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [2]

内容类型

• 学位论文 [1]
• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2014 [1]
• 2012 [1]

学科主题

• 材料科学与物理化学 [1]

筛选

浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 甲烷流量对中频磁控溅射制备TiSi-C:H薄膜生长和性能的影响(英文) 期刊论文  OAI收割 稀有金属材料与工程, 2014, 卷号: 43, 期号: 10, 页码: 2305-2310 作者:  姜金龙;  陈娣;  王琼;  黄浩;  朱维君 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2016/02/15 a-C:H films  middle-frequency magnetron sputtering  mechanical property  tribological property  a-C:H薄膜  中频磁控溅射  力学性能  摩擦性能   中频孪生靶非平衡磁控溅射纳米硅薄膜的研究 学位论文  OAI收割 博士, 北京: 中国科学院金属研究所, 2012 高俊华 收藏  |  浏览/下载：89/0  |  提交时间：2013/04/12 中频孪生靶  非平衡磁控溅射  纳米硅薄膜  磁镜场  middle frequency dual-target  unbalanced magnetron sputtering  nc-Si film  magnetic mirror field