机构

• 半导体研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2008 [1]

学科主题

• 半导体材料 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 High rate deposition of microcrystalline silicon films by high-pressure radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 期刊论文  OAI收割 science in china series e-technological sciences, 2008, 卷号: 51, 期号: 4, 页码: 371-377 Zhou, BQ; Zhu, MF; Liu, FZ; Liu, JL; Zhou, YQ; Li, GH; Ding, K 收藏  |  浏览/下载：61/5  |  提交时间：2010/03/08 radio-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (rf-PECVD)  microcrystalline silicon film  high rate deposition