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• 期刊论文 [4]

发表日期

• 2018 [1]
• 2014 [2]
• 2007 [1]

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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择提交时间升序提交时间降序发表日期升序发表日期降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Refined grating fabrication using Displacement Talbot Lithography 期刊论文  OAI收割 Microelectronic Engineering, 2018, 卷号: 189, 页码: 74-77 作者:  Chen, H.;  Qin, L.;  Chen, Y. Y.;  Jia, P.;  Gao, F.   |  收藏  |   Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography 期刊论文  OAI收割 j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007 作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas 收藏  |   Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography 期刊论文  OAI收割 j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007 作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas 收藏  |   Effect of resolution enhancement techniques on aberration sensitivities of arf immersion lithography at 45 mn node 期刊论文  iSwitch采集 Japanese journal of applied physics part 1-regular papers brief communications & review papers, 2007, 卷号: 46, 期号: 5a, 页码: 2936-2940 作者:  Li, Yanqiu;  Zhang, Fei 收藏  |