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• 期刊论文 [4]

发表日期

• 2018 [1]
• 2014 [2]
• 2007 [1]

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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Refined grating fabrication using Displacement Talbot Lithography 期刊论文  OAI收割 Microelectronic Engineering, 2018, 卷号: 189, 页码: 74-77 作者:  Chen, H.;  Qin, L.;  Chen, Y. Y.;  Jia, P.;  Gao, F.   |  收藏  |  浏览/下载：25/0  |  提交时间：2019/09/17 Refined grating fabrication  Displacement Talbot Lithography  Phase  shift mask  Photolighography  interferometric lithography  grids  Engineering  Science & Technology - Other Topics  Optics  Physics   Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography 期刊论文  OAI收割 j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007 作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas 收藏  |  浏览/下载：27/0  |  提交时间：2016/11/28 extreme ultraviolet lithography  mask model  shadowing effect  pattern shift  critical dimension bias   Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography 期刊论文  OAI收割 j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007 作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2016/11/28 extreme ultraviolet lithography  mask model  shadowing effect  pattern shift  critical dimension bias   Effect of resolution enhancement techniques on aberration sensitivities of arf immersion lithography at 45 mn node 期刊论文  iSwitch采集 Japanese journal of applied physics part 1-regular papers brief communications & review papers, 2007, 卷号: 46, 期号: 5a, 页码: 2936-2940 作者:  Li, Yanqiu;  Zhang, Fei 收藏  |  浏览/下载：42/0  |  提交时间：2019/05/10 Immersion lithography  Resolution enhanced technology (ret)  Polarization  Phase shift mask  Aberration sensitivity