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  • 2011 [1]
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  • Physics [1]
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Influence of ultrathin amorphous silicon layers on the nucleation of microcrystalline silicon films under hydrogen plasma treatment 期刊论文  OAI收割
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2011, 卷号: 98, 期号: 4, 页码: 41902
作者:  Zuo, ZW;  Guan, WT;  Wang, Y;  Lu, J;  Wang, JZ
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