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光电技术研究所 [3]
采集方式
OAI收割 [3]
内容类型
会议论文 [3]
发表日期
2012 [3]
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浏览/检索结果:
共3条,第1-3条
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内容类型:会议论文
发表日期:2012
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Research on method of measuring pattern distortion of circularly symmetrical phase etched CGHs and eliminating the effect of pattern distortion
会议论文
OAI收割
Proceedings of SPIE: 6th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Design, Manufacturing, and Testing of Smart Structures, Micro- and Nano-Optical Devices, and Systems, 2012
作者:
Deng, Chao
;
Feng, Jie
;
Xing, Tingwen
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Maskless lithography alignment method based on phase-shifting Moiré fringes technique
会议论文
OAI收割
Proceedings of SPIE: 6th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Design, Manufacturing, and Testing of Smart Structures, Micro- and Nano-Optical Devices, and Systems, 2012
作者:
Zhu, Jiangping
;
Hu, Song
;
Yu, Junsheng
;
Tang, Yan
收藏
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Effects of grating marks parameters on lithography alignment precision
会议论文
OAI收割
Proceedings of SPIE: Nanophotonics and Micro/Nano Optics, 2012
作者:
Zhu, Jiangping
;
Hu, Song
;
Yu, Junsheng
收藏
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