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机构
上海光学精密机械研... [11]
采集方式
OAI收割 [11]
内容类型
期刊论文 [11]
发表日期
2008 [1]
2007 [2]
2006 [1]
2005 [7]
学科主题
光学薄膜 [11]
筛选
浏览/检索结果:
共11条,第1-10条
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限定条件
学科主题:光学薄膜
条数/页:
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退火对HfO2/SiO2多层膜残余应力的影响
期刊论文
OAI收割
Chin. Opt. Lett., 2008, 卷号: 6, 期号: 3, 页码: 225, 227
申雁鸣
;
韩朝霞
;
邵建达
;
邵淑英
;
贺洪波
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浏览/下载:1181/170
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提交时间:2009/09/22
退火
Annealing effects
HfO2/SiO2多层膜
Electron beam evaporation
残余应力
薄膜厚度对HfO2薄膜残余应力的影响
期刊论文
OAI收割
稀有金属材料与工程, 2007, 卷号: 36, 期号: 3, 页码: 412, 415
申雁鸣
;
贺洪波
;
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
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浏览/下载:1091/173
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提交时间:2009/09/22
HfO2薄膜
HfO2 thin film
残余应力
residual stress
膜厚
thin film thickness
电子束蒸发
electron beam evaporation
沉积温度对LaF3薄膜性能的影响
期刊论文
OAI收割
强激光与粒子束, 2007, 卷号: 19, 期号: 9, 页码: 1507, 1511
余华
;
崔云
;
申雁鸣
;
齐红基
;
邵建达
;
范正修
收藏
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浏览/下载:1036/222
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提交时间:2009/09/22
Crystal structure
Deposition
Grain size and shape
Interferometers
Lanthanum compounds
Refractive index
Residual stresses
Spectrophotometers
Temperature
X ray diffraction
沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响
期刊论文
OAI收割
中国激光, 2006, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 827, 831
申雁鸣
;
贺洪波
;
邵淑英
;
范正修
收藏
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浏览/下载:715/114
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提交时间:2009/09/22
薄膜
HfO2薄膜
残余应力
沉积温度
基底
电子束蒸发
Study of thermal behaviors in CO2 laser irradiated glass
期刊论文
OAI收割
opt. eng., 2005, 卷号: 44, 期号: 4, 页码: 44202
Wei CY
;
贺洪波
;
Deng Z
;
邵建达
;
范正修
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浏览/下载:590/121
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提交时间:2009/09/22
laser induced damage
temperature field
stress
沉积温度对HfO2薄膜残余应力的影响
期刊论文
OAI收割
强激光与粒子束, 2005, 卷号: 17, 期号: 12, 页码: 1812, 1816
申雁鸣
;
贺洪波
;
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:540/107
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提交时间:2009/09/22
HfO2薄膜
HfO
2
films
残余应力
Residual stress
沉积温度
Deposition temperature
微结构
Microstructure
X射线衍射
XRD
氧分压对电子束蒸发SiO2薄膜机械性质和光学性质的影响
期刊论文
OAI收割
光子学报, 2005, 卷号: 34, 期号: 5, 页码: 742, 745
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
;
沈卫星
;
江敏华
收藏
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浏览/下载:678/105
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提交时间:2009/09/22
SiO2薄膜
SiO_2 films
氧分压
Oxygen partial pressure
残余应力
Residual stress
表面形貌
Surface morphology
折射率
Refractive index
电子束蒸发
Electron beam evaporation
薄膜应力研究
期刊论文
OAI收割
激光与光电子学进展, 2005, 卷号: 42, 期号: 1, 页码: 22, 27
邵淑英
;
范正修
;
范瑞瑛
;
邵建达
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浏览/下载:834/145
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提交时间:2009/09/22
薄膜应力
thin films
研究
stress
新进展
ZrO2/SiO2多层膜中膜厚组合周期数及基底材料对残余应力的影响
期刊论文
OAI收割
物理学报, 2005, 卷号: 54, 期号: 7, 页码: 3312, 3316
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
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浏览/下载:885/165
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提交时间:2009/09/22
残余应力
ZrO2/SiO2 multilayers
SiO2
residual stress
ZrO2
periods of repeating thickness
多层膜
周期数
组合
膜厚
基底材料
X射线衍射技术
玻璃基底
电子束蒸发
光学干涉仪
应力值
沉积条件
曲率半径
测量分析
石英基底
变化趋势
结构应变
结晶程度
相互作用
折射率
熔石英
压应力
微结构
Study of thermal behaviors in CO2 laser irradiated glass
期刊论文
OAI收割
opt. eng., 2005, 卷号: 44, 期号: 4, 页码: 44202
Wei CY
;
贺洪波
;
Deng Z
;
邵建达
;
范正修
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浏览/下载:1548/777
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提交时间:2009/09/22
laser induced damage
temperature field
stress