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Characterization of 1.9-and 1.4-nm ultrathin gate oxynitride by oxidation of nitrogen-implanted silicon substrate 外文期刊  OAI收割
2004
作者:  Xu, QX;  Qian, H;  Han, ZS;  Lin, G;  Liu, M
  |  收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2010/11/26
Fabrication of submicron trackwidth thin-film head and its inductance-saturation characteristics 外文期刊  OAI收割
2004
作者:  Du, H;  Wu, D;  Pan, G;  Xia, Y;  Han, ZS
  |  收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2010/11/26
The investigation of key technologies for sub-0.1-mu m CMOS device fabrication 外文期刊  OAI收割
2001
作者:  Xu, QX;  Qian, H;  Yin, HX;  Jia, L;  Ji, HH
  |  收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2010/11/26