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The application of a helicon plasma source in reactive sputter deposition of tungsten nitride thin films 期刊论文  OAI收割
Plasma Science and Technology, 2022, 卷号: 24
作者:  
YANG,Yan;  JI,Peiyu;  LI,Maoyang;  YU,Yaowei;  HUANG,Jianjun
  |  收藏  |  浏览/下载:18/0  |  提交时间:2022/12/22