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一种中高压沟槽型功率器件的终端结构及其制作方法

文献类型:专利

作者喻巧群; 朱阳军; 卢烁今; 田晓丽
发表日期2018-04-03
专利号CN201310086262.X
著作权人 中国科学院微电子研究所 ;  上海联星电子有限公司 ;  江苏中科君芯科技有限公司
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明公开了一种中高压沟槽型功率器件的终端结构及其制作方法,属于半导体功率器件制备技术领域。该终端结构的终端区域至少有一个沟槽,沟槽的两侧均有表面结,靠近有源区的一侧为n型注入结,远离有源区的一侧为p型注入结,沟槽内有填充物。本发明一方面可以在保证器件具有高的击穿电压的同时,缩小了终端保护区的面积,降低了芯片制造成本;另一方面能够降低寄生电荷的影响,提高器件的可靠性。

公开日期2014-06-04
申请日期2013-03-18
语种中文
源URL[http://159.226.55.107/handle/172511/18668]  
专题微电子研究所_硅器件与集成研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
喻巧群,朱阳军,卢烁今,等. 一种中高压沟槽型功率器件的终端结构及其制作方法. CN201310086262.X. 2018-04-03.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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