一种中高压沟槽型功率器件的终端结构及其制作方法
文献类型:专利
| 作者 | 喻巧群 ; 朱阳军 ; 卢烁今 ; 田晓丽
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| 发表日期 | 2018-04-03 |
| 专利号 | CN201310086262.X |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 ; 上海联星电子有限公司 ; 江苏中科君芯科技有限公司 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 英文摘要 | 本发明公开了一种中高压沟槽型功率器件的终端结构及其制作方法,属于半导体功率器件制备技术领域。该终端结构的终端区域至少有一个沟槽,沟槽的两侧均有表面结,靠近有源区的一侧为n型注入结,远离有源区的一侧为p型注入结,沟槽内有填充物。本发明一方面可以在保证器件具有高的击穿电压的同时,缩小了终端保护区的面积,降低了芯片制造成本;另一方面能够降低寄生电荷的影响,提高器件的可靠性。 |
| 公开日期 | 2014-06-04 |
| 申请日期 | 2013-03-18 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/18668] ![]() |
| 专题 | 微电子研究所_硅器件与集成研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 喻巧群,朱阳军,卢烁今,等. 一种中高压沟槽型功率器件的终端结构及其制作方法. CN201310086262.X. 2018-04-03. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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