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半导体研究所 [3]
采集方式
OAI收割 [3]
内容类型
期刊论文 [2]
会议论文 [1]
发表日期
2001 [3]
学科主题
半导体材料 [3]
筛选
浏览/检索结果:
共3条,第1-3条
帮助
限定条件
发表日期:2001
学科主题:半导体材料
条数/页:
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Effects of annealing time and Si cap layer thickness on the Si/SiGe/Si heterostructures thermal stability
期刊论文
OAI收割
journal of crystal growth, 2001, 卷号: 227, 期号: 0, 页码: 766-769
Gao F
;
Lin YX
;
Huang DD
;
Li JP
;
Sun DZ
;
Kong MY
;
Zeng YP
;
Li JM
;
Lin LY
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提交时间:2010/08/12
annealing
molecular beam epitaxy
germanium silicon alloys
semiconducting materials
STRAIN RELAXATION
Effects of annealing time and Si cap layer thickness on the Si/SiGe/Si heterostructures thermal stability
会议论文
OAI收割
11th international conference on molecular beam epitaxy (mbe-xi), beijing, peoples r china, sep 11-15, 2000
Gao F
;
Lin YX
;
Huang DD
;
Li JP
;
Sun DZ
;
Kong MY
;
Zeng YP
;
Li JM
;
Lin LY
收藏
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提交时间:2010/11/15
annealing
molecular beam epitaxy
germanium silicon alloys
semiconducting materials
STRAIN RELAXATION
Competition between band gap and yellow luminescence in undoped GaN grown by MOVPE on sapphire substrate
期刊论文
OAI收割
journal of crystal growth, 2001, 卷号: 222, 期号: 1-2, 页码: 96-103
Xu HZ
;
Bell A
;
Wang ZG
;
Okada Y
;
Kawabe M
;
Harrison I
;
Foxon CT
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提交时间:2010/08/12
gallium nitride
metalorganic vapor-phase epitaxy
photoluminescence
yellow luminescence
N-TYPE GAN
PERSISTENT PHOTOCONDUCTIVITY
THIN-FILMS
DOPED GAN
DEEP LEVELS
ORIGIN
PHOTOLUMINESCENCE
DEPENDENCE
VACANCIES
EPITAXY