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Enhancement effect of plasma-enhanced chemical-vapor-deposited sin capping layer on dielectric cap quantum-well disordering 期刊论文  iSwitch采集
Japanese journal of applied physics part 2-letters & express letters, 1995, 卷号: 34, 期号: 4a, 页码: L418-l421
作者:  
CHOI, WJ;  LEE, S;  ZHANG, JM;  KIM, Y;  KIM, SK
收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2019/05/12
ENHANCEMENT EFFECT OF PLASMA-ENHANCED CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITED SIN CAPPING LAYER ON DIELECTRIC CAP QUANTUM-WELL DISORDERING 期刊论文  OAI收割
japanese journal of applied physics part 2-letters, 1995, 卷号: 34, 期号: 4a, 页码: l418-l421
CHOI WJ; LEE S; ZHANG JM; KIM Y; KIM SK; LEE JI; KANG KN; CHO K
收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2010/11/17