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• 2011 [3]

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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Complexing Between Additives and Ceria Abrasives Used for Polishing Silicon Dioxide and Silicon Nitride Films 期刊论文  OAI收割 ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS, 2011, 卷号: 14, 期号: 3, 页码: H128-H131 Wang,LY; Liu,B; Song,ZT; Liu,WL; Feng,SL; Huang,D; Babu,SV 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2012/04/10 ELECTROCHEMICAL SOC INC   Origin of high oxide to nitride polishing selectivity of ceria-based slurry in the presence of picolinic acid 期刊论文  OAI收割 CHINESE PHYSICS B, 2011, 卷号: 20, 期号: 3, 页码: 38102 Wang,LY; Liu,B; Song,ZT; Liu,WL; Feng,SL; Huang,D; Babu,SV 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2012/04/10 IOP PUBLISHING LTD   Complexing Between Additives and Ceria Abrasives Used for Polishing Silicon Dioxide and Silicon Nitride Films 期刊论文  OAI收割 ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS, 2011, 卷号: 14, 期号: 3, 页码: H128-H131 Wang, LY; Liu, B(重点实验室）; (重点实验室）; song, zt(重点实验室）; Liu, WL; Feng, SL(重点实验室）; Huang, D; Babu, SV 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2013/05/10 Electrochemistry  Materials Science  Multidisciplinary