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• 合肥物质科学研究院 [2]

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• 期刊论文 [2]

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• 2025 [1]
• 2024 [1]

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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Evaluation of chemical mechanical polishing characteristics using mixed abrasive slurry: A study on polishing behavior and material removal mechanism 期刊论文  OAI收割 APPLIED SURFACE SCIENCE, 2025, 卷号: 679 作者:  Zhu, Xiaoxiao;  Ding, Juxuan;  Mo, Zhangchao;  Jiang, Xuesong;  Sun, Jifei   |  收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2024/11/20 Chemical mechanical polishing (CMP)  Ceria abrasive  Diamond abrasive  Interfacial chemical reaction  Material removal mechanism   Photocatalytic assisted chemical mechanical polishing for silicon carbide using developed ceria coated diamond core-shell abrasives 期刊论文  OAI收割 TRIBOLOGY INTERNATIONAL, 2024, 卷号: 197 作者:  Zhu, Xiaoxiao;  Gui, Yuziyu;  Fu, Hao;  Ding, Juxuan;  Mo, Zhangchao   |  收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2024/11/20 Silicon carbide (SiC)  Photocatalytic-assisted chemical mechanical  polishing (PCMP)  Core/shell abrasives  Materials removal mechanism