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期刊论文 [30]
学位论文 [5]
发表日期
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2014 [1]
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学科主题
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含氟丙烯酸酯光刻胶的合成及光刻应用
学位论文
OAI收割
: 中国科学院过程工程研究所, 2022
作者:
陈颖
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提交时间:2023/06/25
含氟聚丙烯酸酯,光刻胶,化聚乙烯亚胺/聚丙烯酸(Bpei/paa),层层自组装,可擦写性
应用于22nm及以下节点的极紫外光刻胶研究进展
期刊论文
OAI收割
科学技术与工程, 2016, 期号: 11, 页码: 120-127
作者:
吴义恒
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提交时间:2017/09/17
极紫外光刻
光刻胶
平衡关系
材料设计
基于ZnS金属网栅制作工艺的改进
期刊论文
OAI收割
中国光学, 2014, 期号: 1, 页码: 131-136
陈赟
;
李艳茹
;
张红胜
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提交时间:2015/04/17
金属网栅
多晶ZnS
光刻复制工艺
光刻胶
大尺寸玻璃网格板制作工艺的研究
期刊论文
OAI收割
长春理工大学学报(自然科学版), 2013, 期号: Z1, 页码: 10-12
陈赟
;
张红胜
;
李艳茹
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提交时间:2014/03/07
玻璃网格板
计量圆光栅
制作工艺
光刻胶
刻线间距
极紫外光刻离轴照明技术研究
期刊论文
OAI收割
光学学报, 2012, 期号: 12, 页码: 147-152
作者:
金春水
;
王丽萍
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提交时间:2013/03/11
X射线光学
极紫外光刻
分辨率增强
离轴照明阴影效应
光刻胶
碲镉汞双色红外探测芯片的喷涂匀胶技术研究
学位论文
OAI收割
: 中国科学院研究生院, 2012
作者:
尹文婷
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提交时间:2012/09/11
碲镉汞双色红外焦平面探测器
高深宽比微结构
喷涂匀胶技术
光刻胶均匀分布
基于MEMS技术的SU-8仿昆虫微扑翼飞行器设计及制作
期刊论文
OAI收割
机器人, 2011, 卷号: 33, 期号: 3, 页码: 366-370
作者:
迟鹏程
;
张卫平
;
陈文元
;
李洪谊
;
孟坤
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提交时间:2012/05/29
微扑翼飞行器
SU-
MEMS
仿生机器人
光刻胶
双翅目昆虫
压电驱动器
结构设计
结构材料
仿生学原理
石墨/Li(Ni_(1/3)Co_(1/3)Mn_(1/3))O_2电池高温储存后的性能变化
期刊论文
OAI收割
电池, 2010, 期号: 06
李佳
;
刘浩涵
;
谢晓华
;
娄豫皖
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提交时间:2012/01/06
边缘效应
电化学腐蚀
机械应力
SU8光刻胶
一种新型聚合物微透镜阵列的制造技术
期刊论文
OAI收割
中国激光, 2009, 卷号: 36, 期号: 11, 页码: 2869-2872
王伟
;
周常河
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提交时间:2010/05/14
光学制造
微透镜阵列
光刻胶热熔法
软刻蚀
压印技术
optical fabrication
microlens array
thermal reflow
soft lithography
imprint technology
短波红外InGaAs探测器的台面成型技术研究
学位论文
OAI收割
: 中国科学院研究生院, 2009
作者:
宁锦华
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提交时间:2012/08/22
由于ingaas 短波红外探测器具有可以室温工作
探测率高等优点
Ingaas线列红外焦平面在国外已经成功用于空间遥感。本论文主要围绕台面结构的ingaas探测器制备的台面成型工艺展开研究
重点研究了感应耦合等离子体刻蚀(icp)台面成型工艺。同时利用不同的台面成型方式制备ingaas探测器
通过最终性能的比较
评价得出较好的台面成型方式
为ingaas红外焦平面的研制提供工艺参考。取得结果如下:icp刻蚀中掩膜的材料致密性
侧壁粗糙度和垂直度等对刻蚀效果具有至关重要的影响。为了使刻蚀残留物挥发掉
铟基材料的刻蚀需要对样品加热
在此温度下
光刻胶掩膜会碳化。对于ingaas材料来说
采用pecvd生长sinx
选择边缘平整的光刻板
用sf6 Rie刻蚀sinx后用hf:nh4f:h2o为3:6:10的溶液常温腐蚀6秒
可以实现垂直光滑的刻蚀端面。ch4/cl2刻蚀铟基材料表面光洁无残留物
但对于制备2µm左右台面深度的延伸波长ingaas探测器
平均刻蚀速率过快
同时钻蚀略大了些。ar气和n2能加速cl2的分离
提高刻蚀速率
相比较ar气
N2的物理轰击力小
对材料造成的损伤小
同时在刻蚀过程中n2能和材料中的si发生反应生成sinx
在材料表面产生钝化。用cl2/n2作为刻蚀气体对ingaas探测器进行台面成型
能得到刻蚀速率稳定可控
刻蚀后的表面光洁无残留物
图形保真度好。在不同的直流偏压
Icp功率
气体总流量和气体组分等参数下进行台面成型
并从刻蚀速率
刻蚀垂直度
刻蚀表面粗糙度等几个方面对刻蚀质量做了评估和分析。在摸清铟基材料刻蚀规律的基础上
找到了可用于常规波长和延伸波长ingaas探测器制备的icp刻蚀参数。icp刻蚀与湿法腐蚀台面成型的八元台面器件具有相同的性能。但是在器件性能相当的情况下
Icp具有图形保真度好
刻蚀速率稳定可控的优点
因而更适用于ingaas探测器的工程制作
特别在小光敏元探测器的制备中
Icp的优势将更明显。