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45nm CMOS工艺下的低泄漏多米诺电路研究 期刊论文  OAI收割
微电子学与计算机, 2008, 卷号: 25, 期号: 2, 页码: 89-92
作者:  
王宏;  杨志家
  |  收藏  |  浏览/下载:17/0  |  提交时间:2010/11/29
45nm体硅工艺下使用双-栅氧化层厚度降低SRAM的泄漏功耗 期刊论文  OAI收割
半导体学报, 2007, 卷号: 17, 期号: 5, 页码: 745-749
作者:  
王宏;  杨松;  杨志家
  |  收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2010/11/29