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ULSI关键工艺技术——纳米级化学机械抛光 期刊论文  OAI收割
微纳电子技术, 2005, 期号: 07
张楷亮; 宋志棠; 封松林; Chen Bomy
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氮化镓光辅助湿法刻蚀后的位错密度估算 期刊论文  OAI收割
固体电子学研究与进展, 2002, 期号: 02
赵智彪; 李伟; 祝向荣; 齐鸣; 李爱珍
收藏  |  浏览/下载:29/0  |  提交时间:2012/01/06