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靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文  OAI收割
真空, 2005, 期号: 1, 页码: 11-14
王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时
收藏  |  浏览/下载:18/0  |  提交时间:2012/04/12
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响 期刊论文  OAI收割
真空, 2005, 卷号: 42.0, 期号: 1.0, 页码: 11-14
作者:  
王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
  |  收藏  |  浏览/下载:53/0  |  提交时间:2021/02/26
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文  OAI收割
第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛, 深圳, 2004-11-15
王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时
收藏  |  浏览/下载:37/0  |  提交时间:2013/08/21
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文  OAI收割
第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛, 深圳, 2004-11-15
王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时
收藏  |  浏览/下载:42/0  |  提交时间:2011/07/26