机构

• 金属研究所 [3]
• 力学研究所 [1]
• 化学研究所 [1]
• 上海光学精密机械研究... [1]
• 兰州化学物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [7]

内容类型

• 期刊论文 [7]

发表日期

• 2014 [1]
• 2009 [2]
• 2008 [2]
• 2007 [1]
• 1999 [1]

学科主题

• 光学薄膜 [1]
• 材料科学与物理化学 [1]

筛选

浏览/检索结果: 共7条，第1-7条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响 期刊论文  OAI收割 稀有金属材料与工程, 2014, 卷号: 43, 期号: 4, 页码: 977-981 作者:  姜金龙;  陈娣;  王琼;  杨华;  魏智强 收藏  |  浏览/下载：122/0  |  提交时间：2015/10/26 Ti-Si-C nanocomposite films  Ar+ sputter-etching  XPS  bonding configurations   Effects of Substrate Temperature on the Growth of Polycrystalline Si Films Deposited with SiH4+Ar 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE & TECHNOLOGY, 2009, 卷号: 25, 期号: 4, 页码: 489-491 作者:  Cheng, Hua;  Wu, Aimin;  Xiao, Jinquan;  Shi, Nanlin;  Wen, Lishi   |  收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2021/02/02 Poly-Si films  ECR-PECVD  Substrate temperature  Ar-dilution   Effects of Substrate Temperature on the Growth of Polycrystalline Si Films Deposited with SiH(4)+Ar 期刊论文  OAI收割 Journal of Materials Science & Technology, 2009, 卷号: 25, 期号: 4, 页码: 489-491 H. Cheng; A. M. Wu; J. Q. Xiao; N. L. Shi; L. S. Wen 收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2012/04/13 Poly-Si films  ECR-PECVD  Substrate temperature  Ar-dilution  chemical-vapor-deposition  ar-diluted sih4  microcrystalline silicon  optical-properties  h films  plasma  pecvd  hydrogen  silane   Effect of Ar on Polycrystalline Si Films Deposited by ECR-PECVD using SiH4 期刊论文  OAI收割 Journal of Materials Science & Technology, 2008, 卷号: 24, 期号: 5, 页码: 690-692 H. Cheng; A. M. Wu; N. L. Shi; L. S. Wen 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2012/04/13 Ar flow rate  ECR-PECVD  Poly-Si  Thin Films  chemical-vapor-deposition  microcrystalline silicon  low-temperatures  plasma  growth  transition  hydrogen   引入过渡层提高介质减反膜的抗激光损伤阈值 期刊论文  OAI收割 Chin. Opt. Lett., 2008, 卷号: 6, 期号: 10, 页码: 773, 775 王聪娟; 晋云霞; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：1548/166  |  提交时间：2009/09/22 减反膜  Antireflection  损伤阈值  AR coatings  AR films  Center wavelengths  Interfacial layers  Laser induced damage thresholds  Quarter wavelength optical thicknesses   (Ti,Al)N Film On Normalized T8 Carbon Tool Steel Prepared By Pulsed High Energy Density Plasma Technique 期刊论文  OAI收割 Chinese Physics Letters, 2007, 页码: 3469-3472 作者:  Liu YF;  Deng FP;  Han JM;  Xu XY;  Yang SZ 收藏  |  浏览/下载：514/28  |  提交时间：2009/08/03 Chemical-Vapor-Deposition  Ticl4/Alcl3/N-2/H-2/Ar Gas-Mixture  (Ti1-Xalx)N Coatings  Nitride Films  Behavior   XPS studies of superconducting Gd-Ba-Cu-O films 期刊论文  OAI收割 ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA, 1999, 卷号: 15, 期号: 5, 页码: 398-402 作者:  Zhao, LZ;  Wang, RL;  Xu, HY;  Li, HC;  Liu, SH   |  收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2019/04/09 Superconducting Gd-ba-cu-o Films  Xps  Xps Imaging  Ar++++ Ion Etching