机构

• 金属研究所 [1]
• 大连化学物理研究所 [1]
• 中国科学院大学 [1]
• 半导体研究所 [1]
• 兰州化学物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [4]
• iSwitch采集 [1]

内容类型

• 期刊论文 [5]

发表日期

• 2012 [1]
• 2010 [2]
• 2009 [1]
• 2008 [1]

学科主题

• 半导体材料 [1]
• 材料科学与物理化学 [1]

筛选

浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Effects of the Concentration of MgO in the Catalyst on the Growth of Carbon Nanotubes 期刊论文  OAI收割 molecular crystals and liquid crystals, 2012, 卷号: 569, 页码: 1-9 作者:  Li, Ming-Ji;  Sun, Jia;  Li, Hong-Ji;  Huang, Bao-Kun;  Yang, Bao-He 收藏  |  浏览/下载：36/0  |  提交时间：2015/11/13 Carbon nanotubes  carbon nano-onion  MgO  Ni  RF-PECVD   Ti-dlc films with superior friction performance 期刊论文  iSwitch采集 Diamond and related materials, 2010, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 342-349 作者:  Zhao, Fei;  Li, Hongxuan;  Ji, Li;  Wang, Yongjun;  Zhou, Huidi 收藏  |  浏览/下载：27/0  |  提交时间：2019/05/10 Rf pecvd  Ti-doped dlc  Ultralow friction  Load  Relative humidity   Ti-DLC films with superior friction performance 期刊论文  OAI收割 Diamond and Related Materials, 2010, 卷号: 19, 页码: 342-349 作者:  Ji L(吉利);  Zhou HD(周惠娣);  Chen JM(陈建敏);  Chen JM(陈建敏);  Li HX(李红轩) 收藏  |  浏览/下载：51/0  |  提交时间：2012/09/28 RF PECVD  Ti-doped DLC  Ultralow friction  Load  Relative humidity   Raman Spectra Analysis of Bromine Doped Hydrogenated Amorphous Carbon (a-C : Br : H) Films Deposited by RF-PECVD 期刊论文  OAI收割 Spectroscopy and Spectral Analysis, 2009, 卷号: 29, 期号: 12, 页码: 3309-3311 J. H. Feng; T. C. Lu; W. D. Wu; P. Jia 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2012/04/13 Raman spectroscopy  RF-PECVD  a-C:Br:H  sp(2)  thin-films  diamond  spectroscopy   High rate deposition of microcrystalline silicon films by high-pressure radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 期刊论文  OAI收割 science in china series e-technological sciences, 2008, 卷号: 51, 期号: 4, 页码: 371-377 Zhou, BQ; Zhu, MF; Liu, FZ; Liu, JL; Zhou, YQ; Li, GH; Ding, K 收藏  |  浏览/下载：58/5  |  提交时间：2010/03/08 radio-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (rf-PECVD)  microcrystalline silicon film  high rate deposition