机构

• 上海光学精密机械研究... [2]
• 微电子研究所 [1]
• 上海技术物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [4]

内容类型

• 期刊论文 [4]

发表日期

• 2019 [1]
• 2008 [1]
• 2005 [2]

学科主题

• 光学薄膜 [2]

筛选

浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序 退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响 期刊论文  OAI收割 物理学报, 2019, 卷号: 68, 期号: 11, 页码: 166-172 作者:  刘保剑;  段微波;  李大琪;  余德明;  陈刚   |  收藏  |  浏览/下载：381/0  |  提交时间：2019/11/13 光学薄膜  Ta2O5/SiO2多层反射膜  退火  应力特性   退火对HfO2/SiO2多层膜残余应力的影响 期刊论文  OAI收割 Chin. Opt. Lett., 2008, 卷号: 6, 期号: 3, 页码: 225, 227 申雁鸣; 韩朝霞; 邵建达; 邵淑英; 贺洪波 收藏  |  浏览/下载：1537/189  |  提交时间：2009/09/22 退火  Annealing effects  HfO2/SiO2多层膜  Electron beam evaporation  残余应力   一种新型抗辐照SOI隔离结构 期刊论文  OAI收割 半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 7, 页码: 4，1291-1294 作者:  司红;  赵洪辰;  海潮和;  韩郑生;  钱鹤   |  收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2010/05/26 隔离结构  抗辐照  Soi  薄sio2  多晶硅  Sio2多层膜   ZrO2／SiO2多层膜中膜厚组合周期数及基底材料对残余应力的影响 期刊论文  OAI收割 物理学报, 2005, 卷号: 54, 期号: 7, 页码: 3312, 3316 邵淑英; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：1107/191  |  提交时间：2009/09/22 残余应力  ZrO2/SiO2 multilayers  SiO2  residual stress  ZrO2  periods of repeating thickness  多层膜  周期数  组合  膜厚  基底材料  X射线衍射技术  玻璃基底  电子束蒸发  光学干涉仪  应力值  沉积条件  曲率半径  测量分析  石英基底  变化趋势  结构应变  结晶程度  相互作用  折射率  熔石英  压应力  微结构